韩进出口银行:韩中DRAM技术差距在5年以上

发稿时间 2020-08-11 14:57
"한국과 중국 D램 기술격차 5년 이상…진입장벽 높다"
据业界11日消息,韩国进出口银行近日发布的《中国半导体产业现状及竞争力》报告中认为,韩国在全球DRAM市场保持主导地位,韩中间的DRAM技术差距至少在5年以上。

数据显示,在DRAM领域,三星电子、SK海力士以及美光等三大公司在市场占据垄断地位,其中韩国公司的市场占有率接近74%。由于生产DRAM需要数十万亿韩元的大规模投资,因而生产门槛相对较高。报告表示,中国于2019年开始量产第一代10纳米DRAM,而韩国则将于2021年开始量产第四代DRAM。韩国计划在下一代DRAM中使用EUV(极紫外线)光刻技术,由于设备的价格较高及供给能力有限,预计韩国会长期在此领域保持一定领先地位。据了解,以晶圆投入为基准,今年第二季度中国长鑫内存(CXMT)的生产能力约为韩国企业的4%,而另一家中国存储器企业长江存储(YMTC)于2019年进军DRAM市场,预计将从2022年起开始投入量产。

韩国进出口银行指出,在NAND闪存市场,韩中间的技术差距在2年以上。不过,与基本被垄断的DRAM市场不同,目前三星电子、铠侠(Kioxia)、西部数据、美光、SK海力士以及因特尔等企业在NAND闪存市场展开激烈竞争。韩国于2019年开始量产128层3D NAND闪存产品,中国YMTC公司则正在准备推进今年年底开始批量生产同一产品。不过由于该产品收益率不高,中国企业要保持稳定生产仍需一定时间。分析指出,YMTC的设备投资有望从2020年的39亿美元扩大至2021年的65亿美元,投资金额增加一倍左右。如果能保持收益率稳定,并扩大生产,从中长期角度来看,中国或将在NAND闪存市场保有一定占有率。

报告表示,除存储器外,在系统半导体领域,韩国率先占领半导体纯晶圆代工(Foundry)市场,而中国在IC设计公司(Fabless)市场占据优势。韩国进出口银行认为,中国的工艺技术虽然较韩国落后一定时间,但以内需和价格竞争力为基础,其技术正在不断稳步提高。
 

三星电子【图片提供 韩联社】

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